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Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik
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Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik, Barbara Fröschle
- Sprache
- Erscheinungsdatum
- 1997
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- Titel
- Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik
- Sprache
- Deutsch
- Autor*innen
- Barbara Fröschle
- Verlag
- Shaker
- Erscheinungsdatum
- 1997
- ISBN10
- 3826521870
- ISBN13
- 9783826521874
- Kategorie
- Fotografie & Kameratechnik