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Oberflächenanalytische Charakterisierung von metallischen Verunreinigungen und Oxiden auf GaAs
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Inhalt dieses Buches ist die detaillierte Charakterisierung der Oberfläche von GaAs-Halbleitern hinsichtlich oberflächennaher Verunreinigungen und passivierender Oxidschichten. Der Autor entwickelt ein Verfahren zum quantitativen Nachweis von metallischen Spurenelementen mit der Flugzeit-Sekundärionenmassenspektrometrie (TOF-SIMS), das es möglich macht, Oberflächenbelegungen auf GaAs mit Konzentrationen kleiner 109 Atome/cm2 quantitativ nachzuweisen. Ein Vergleich passivierender Oxide hinsichtlich ihrer Komponenten, Schichtstruktur und Dicke liefert die Grundlagen für gezielte Änderungen des Herstellungsprozesses.
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Oberflächenanalytische Charakterisierung von metallischen Verunreinigungen und Oxiden auf GaAs, Frank Schro der Oeynhausen
- Sprache
- Erscheinungsdatum
- 1997
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- Titel
- Oberflächenanalytische Charakterisierung von metallischen Verunreinigungen und Oxiden auf GaAs
- Sprache
- Deutsch
- Autor*innen
- Frank Schro der Oeynhausen
- Verlag
- Dt. Univ.-Verl.
- Erscheinungsdatum
- 1997
- ISBN10
- 3824420910
- ISBN13
- 9783824420919
- Kategorie
- Skripten & Universitätslehrbücher
- Beschreibung
- Inhalt dieses Buches ist die detaillierte Charakterisierung der Oberfläche von GaAs-Halbleitern hinsichtlich oberflächennaher Verunreinigungen und passivierender Oxidschichten. Der Autor entwickelt ein Verfahren zum quantitativen Nachweis von metallischen Spurenelementen mit der Flugzeit-Sekundärionenmassenspektrometrie (TOF-SIMS), das es möglich macht, Oberflächenbelegungen auf GaAs mit Konzentrationen kleiner 109 Atome/cm2 quantitativ nachzuweisen. Ein Vergleich passivierender Oxide hinsichtlich ihrer Komponenten, Schichtstruktur und Dicke liefert die Grundlagen für gezielte Änderungen des Herstellungsprozesses.