Optische In-situ-Meßtechniken bei der Entwicklung und Anwendung von plasmaunterstützten Oberflächentechniken für räumlich ausgedehnte und komplexe Geometrien ; mit 14 Tabellen

Inhaltsverzeichnis1 Einleitung.1. 1 Entwicklungsbedarf und Lösungsstrategie.1. 2 Motivation und Aufgabenstellung.2 Einteilung der plasmaunterstützten Oberflächentechnologie.2.1 Prinzipien der plasmaunterstützten Oberflächentechnik.2.2 Grundlagen der Niederdruck-Glimmentladung.2. 3 Druck, eine verfahrensbestimmende äußere Plasmagröße.2.4 Grundzüge der homogenen Plasma-Volumenreaktionen.2. 5 Inhomogene Plasma-Festkörperinteraktion: Leuchtsaum und Kathodenfall ..2. 6 Reaktionskinetik.3 Technischer Stand plasmauntestützter Oberflächenprozesse.3.1 Plasmaunterstützte Thermo-Diffusionsbehandlung.3.2 Beschichtung aus der plasmaaktivierten Gasphase.3.3 Amorphe, wasserstoffhaltige Kohlenstoffphase a-C: H.3.4 Kombinationsprozesse und Verbundschichten.3.5 Charakterisierung von Schicht- und Schichtverbundeigenschaften.4 In situ Plasma-Diagnostik.4.1 Aktive und passive optische Plasmadiagnostik.4.2 Basisprinzip der optischen Emissionsspektroskopie (OES).4.3 Meßtechnische Methodik der passiven OES.4.4 Aktive, laserunterstütze optische Plasmadiagnostik.4.5 Wechselwirkungseffekte mit Photonen: Lichtstreuung.4.6 Wechselwirkungseffekte mit Photonen: Induzierte Fluoreszenz.4.7 Anwendungsbeispiel: Spektroskopische Temperaturmessung in Gasen.5 Umsetzung der Plasmadiagnostik.5.1 Vergleich experimenteller und industrieller Aufbauten.5.2 Industrieller Aufbau.5.3 Was, wie und wo detektieren ?.5.4 Lokale Plasmadiagnostik in großvolumigen Reaktoren.5.5 Prozeßüberwachung im Reaktionsvolumen.6 Charakterisierung eines Plasmaprozesses.6. 1 Einfluß der Spannung und charakteristischen Stromdichte.6.2 Einfluß der Gaszusammensetzung/Druck.6.3 Einfluß der Frequenz.6.4 Korrelation zu Schichteigenschaften.7 Überprüfung derdargestellten Ansätze: Kombinationsbeschichtung.8 Zusammenfassung und Ausblick.9 Literatur.10 Anlagen: Wirkungsquerschnitte, Datensammlung Emissionslinien.