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Experimentelle und theoretische Untersuchung der Chemical-Vapor-Deposition von Kupfer mit Kupferjodid als Ausgangsmaterial

Autoren

Alfons Möller

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Skripten & Universitätslehrbücher

Reihe: Berichte aus der Verfahrenstechnik

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Experimentelle und theoretische Untersuchung der Chemical-Vapor-Deposition von Kupfer mit Kupferjodid als Ausgangsmaterial, Alfons Möller

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Erscheinungsdatum: 1998

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