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Einfluss der Prozessparameter auf die Depositionsbedingungen und die physikalischen Eigenschaften reaktiv abgeschiedener TiN-Schichten bei der Innenbeschichtung von Rohren mittels Ionenputtern

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Einfluss der Prozessparameter auf die Depositionsbedingungen und die physikalischen Eigenschaften reaktiv abgeschiedener TiN-Schichten bei der Innenbeschichtung von Rohren mittels Ionenputtern, Thomas Kraus

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Erscheinungsdatum
2004
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