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Die Atomlagenabscheidung hat seit Beginn des neuen Jahrtausends an Bedeutung gewonnen, sowohl in der Industrie als auch in der Wissenschaft. Die Fähigkeit, ultradünne Schichten kontrolliert auf verschiedenen Substraten aufzubringen, ist nicht nur für die Halbleiterindustrie entscheidend, sondern auch für biotechnologische und sensorische Anwendungen wie Diffusionssperrschichten und Gassensoren sowie für die Erforschung von Solarzellen und Photohalbleitern zur nachhaltigen Energiegewinnung. Der erste Teil dieser Dissertation behandelt die Entwicklung neuer, luftstabiler Precursoren für die plasmaunterstützte Atomlagenabscheidung metallischer Cobalt- und Nickelschichten unter Verwendung tridentater Enaminon-Liganden und metallischer Kupferschichten durch bidentate Heteroarylalkenolat-Liganden. Ein speziell entwickeltes Ligandenkonzept wird auf seine selbstlimitierenden Eigenschaften und Eignung als ALD-Precursor getestet. Der zweite Teil fokussiert sich auf die Herstellung von Titandioxid-Photoanodenmaterialien für die solare Wasserelektrolyse. Durch gezielte Modifikation von ALD-Titandioxidschichten mit Wasserstoff- und Stickstoffplasma wird der Einfluss von Sauerstoff-Fehlstellen und Dotierelementen auf die photoelektrochemischen Eigenschaften untersucht, um leistungsstarke Photoanodenmaterialien in reproduzierbarem Maßstab herzustellen.
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Atomlagenabscheidung und Modifikation metallischer Cobalt-, Nickel- und Kupferschichten sowie Titandioxidschichten, Alexander Sasinska
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- 2017
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