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Untersuchung von Kobaltsilizid-Prozessen für die Anwendung an Basis-Kontakten integrierter Si-SiGe-Heterobipolartransistoren

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Untersuchung von Kobaltsilizid-Prozessen für die Anwendung an Basis-Kontakten integrierter Si-SiGe-Heterobipolartransistoren, Jörg Markus Hohaus

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2004
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