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Zweidimensionale In-Plane-Gate-Transistoren: Herstellung durch n-Dotierung von AlxGa1-xAs-InyGa1-yAs-GaAs-Heterostrukturen mittels fokussierter Si-Ionenstrahlen

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Zweidimensionale In-Plane-Gate-Transistoren: Herstellung durch n-Dotierung von AlxGa1-xAs-InyGa1-yAs-GaAs-Heterostrukturen mittels fokussierter Si-Ionenstrahlen, Andrea Seekamp

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2004
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(Paperback)
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