EMLC 2006

Vom 23.-26. Januar 2006 treffen Experten aus Wissenschaft, Industrie und Dienstleistung zusammen, um sich einen Überblick über die aktuelle Entwicklung auf dem Gebiet der Masken- und Lithographietechnologie zu verschaffen. Die Konferenz wird unterstützt durch BACUS, SEMI-Europe, SPIE, PMJ, AMD Saxony, AMTC, ASML, Infineon, KLA-Tencor, Photronics, Silicon Sacony und UBC Microelectronics. Im Mittelpunkt der GMM-Konferenz stehen Aspekte der Forschung und Entwicklung, der Produktion und des Einsatzes von Maskentechnologien und die damit verbundenen Anwendungen in der Lithographie, Metrologie und anderen Gebieten. Maskenhersteller und Anwender erhalten umfassend Gelegenheit, neue Entwicklungen und Ergebnisse kennen zu lernen und intensiv den Erfahrungsaustausch mit anderen Fachleuten zu pflegen. In Verbindung mit der Konferenz wird auch eine fachbegleitende Ausstellung stattfinden.